于UTC 7月27日14:13发布的通稿报道称，一家获得国家支持的中国制造商已开始制造浸没式深紫外光刻扫描仪——这一工具类别几乎已被 ASML 垄断，也是西方对中国芯片产业出口管制背后最关键的前提。

摆在台面上的数字

该计划约为2026年5套系统，以及2027年约20套。这家生产商与上海 Yuliangsheng有关，该公司与 SiCarrier 和华为有关联；报道称，由于事涉敏感，制造商未被点名。首批交付预计将于今年送往SMIC、Hua Hong Semiconductor和CXMT。据报道，SMIC 自2025年9月以来一直在测试一台 Yuliangsheng 浸没式工具。浸没式 DUV 可通过单次曝光实现 28nm 级别工艺，并可通过多重图形化达到 7nm 级别，但会以套刻精度和良率为代价。

市场如何反应

数小时内，ASML因上市地点不同下跌 4.6% 至 7%，BE Semiconductor下跌 8.5%，Soitec 下跌 5%，Infineon 下跌 3%。Nvidia 下跌 5%，SOX 指数下跌 2.23%。今年中国约占ASML 净销售额的20%，低于 2025 年的 33%。

“量产”这个说法大有文章

多家媒体把这件事标题写成了量产启动。通稿的说法恰恰相反：该工具“在性能和可靠性方面仍然落后，在进入量产前还需要进一步测试”，资格认证将贯穿未来数月，良率也低于行业最佳水平。每年五台仅相当于 ASML 在 2025 年交付的 131 套浸没式系统的3.8%——这只是试产线，而非替代。关键子系统仍需从日本进口，因此这也算不上自给自足。而且 DUV 不是 EUV：这里没有任何内容能够弥合先进制程差距。

消息来源的保留说明

原始报道来自一家设有付费墙的单一媒体。ASML 拒绝置评，也没有任何中国公司予以证实。一个未经任何具名方确认、仅涉及五台机器的试产线，在一个下午撬动了约 500 亿美元的市值——这既说明了外界对出口管制论点的支撑有多脆弱，也说明了光刻本身的重要性。