ASML High-NA EUV 리소그래피 시스템의 첫 주요 부품이 7월 21일 뉴욕의 Albany NanoTech Complex에 도착했다. 도착한 것은 메인프레임의 기반을 이루는 하부 메인 모듈이다. 나머지 구간은 향후 수주에 걸쳐 운송될 예정이며, 아직 설치되거나 가동된 상태는 아니다.

실제 의미는 무엇인가

이는 미국 내 첫 High-NA EUV 장비가 아니다. Intel은 2023년 말 오리건주 Hillsboro에서 ASML TWINSCAN EXE:5000을 인도받아 2024년 4월 조립을 마쳤고, 2026년 7월 15일경부터 High-NA 생산 사용을 시작했다. Albany의 장비는 성격이 다르다. 북미 최초의, 공공 소유이면서 공개적으로 접근 가능한 High-NA 연구 거점이다.

배경이 된 자금

이 장비 한 대의 가격은 대략 4억 달러다. Albany 부지는 뉴욕주 10억 달러 투자와 이를 지렛대로 한 90억 달러의 산업 자금으로 뒷받침되며, 여기에 IBM, Micron, Tokyo Electron 등이 참여한 총 100억 달러 규모의 파트너십이 더해진다. 장비는 2025년 12월 상량식을 마친 새 NanoFab Reflection 건물에 설치되고 있다.

생산이 아니라 연구

Albany는 상업용 칩을 생산하지 않는다. NY CREATES는 High-NA를 제조 공정에 통합하는 작업에 관한 공유 R&D를 수행한다. 공정 레시피, 결함률, 수율 등, 이 기술이 대규모로 사용 가능한지를 좌우하는 작업이다. 가장 자주 비교되는 사례는 벨기에의 imec다. NY CREATES 최고경영자 Dave Anderson은 이번 도착을 "변혁적"이라고 평가하며, 이 부지가 차세대 기술 개발의 "일종의 중심부"에 있다고 말했다.

다음으로 볼 지점

가장 중요한 이정표는 "first light"다. EUV 광원을 켜는 순간으로, 완전한 생산 가동이 아니라 2026년 말 이전 달성을 목표로 하고 있다.