#lithography

북미 최초의 공공 소유 High-NA EUV 장비, Albany에 도착하기 시작

약 4억 달러 규모의 ASML 시스템 기본 모듈이 Albany NanoTech Complex에 도착했다. 100억 달러 규모의 파트너십은 차세대 리소그래피를 그동안 장비를 살 수 없었던 연구자들에게 개방할 예정이다.

2시간 전