Puces IA
La première machine High-NA EUV publique d'Amérique du Nord commence à arriver à Albany
Le module de base d'un système ASML d'environ 400 millions de dollars est arrivé au Albany NanoTech Complex, où un partenariat de 10 milliards de dollars ouvrira la lithographie de nouvelle génération à des chercheurs qui n'auraient jamais pu en acheter une.
22 juil. 2026
